LightTrans VirtualLabTM的持續完善——LightTrans VirtualLabTM 提供更多擴展功能，更易上手，性能更加卓越
VirtualLabTM正在持續擴展并完善。每年數次的新版本發布保證了VirtualLabTM的用戶能立刻從這個平臺的發展中受益。對于提升用戶的便捷性和舒適度，改善數值性能，解決光學建模中的問題以及在適應現代計算機體系結構方面，使用LightTrans在VIrtualLabTM工具箱提供的更新服務都是非常有用的。
5.10版本的更新功能
參數運行模擬系列實驗
改進的參數運行定義了針對公差和優化的實驗系列，這對于用戶來說會更加舒適方便，對結果緩存方式的改進使得運算速度大大提升。
部分相干光模擬
VirtualLab提供了基于模式模型的合理方法進行時域和空域的部分相干光建模，通過高效方法以及并行處理急劇加速了模式的處理過程。
元件定位更加靈活
光學元件的位置和方向定義更加自由，包括傾斜、偏離，以及公差分析和優化中的使用。
高效地追跡引擎
包括場追跡和光線追跡的追跡引擎又有了進一步的擴展。作為系統一部分的光柵的嚴格模擬是其中一個例子
光束整形以及圖形生成
添加了單色光以及白光LED整形的新設計方法。添加了新的輸出格式.STL和.TIFF。
數據查看更方便
VirtualLab對于數據和數據矩陣的顯示、操作以及定值提供了新的選項，包括動畫中的數據。
用戶自定義建模
VirtualLab.Programming用戶可在可編程界面上添加自己的建模技術，這使得場追跡更加靈活。
飛秒和阿秒的時域空域建模
飛秒阿秒的展寬壓縮、聚焦整形的建模已經添加到5.8-5.10版本中。阿秒脈沖建模中會使用X光的色散關系。
黑匣子元件保護知識產權
新添加的黑匣子元件可以使光學供應商提供給客戶一個VirtualLab建模的加密元件
建模情況易跟蹤
場追跡對交叉學科的建模任務提供了高度靈活性，對于每一步的計算情況VirtualLab都有詳細的日志記錄。
關于光學建模設計中的需求和技術問題，我們誠邀您的探討。
VirtualLabTM5．10把主要精力投入在了照明工具箱，改善了光束整形理念，使照明工具箱功能更強大。反射和折射整形元件可以在照明工具箱中使用，并且在設計分析復雜的光學系統過程中允許添加其他光學元件。
另外使用場追跡的概念進行光學建模性能得到了改善，包括坐標系的巧妙處理以及傳播過程中分析參數的使用更加統一。
數據矩陣以及面對對象的數據矩陣的可視化有了極大改善，并開發了一維和二維數據的內容選擇工具。
詳情如下：
1、 照明工具箱
支持使用反射和折射整形元件，通過陣列反射鏡及陣列棱鏡實現。
對于反射和折射整形元件可以將其結構輸出為txt文件及CAD格式，輸出至CAD中由STL實現，包含結構規劃及邊界擠壓。
可以建立復雜光學系統，輸出結果由camera detector觀察。
基于照明工具箱設計算法的元胞陣列可以使用隨機生成來復現結果。
基于光束整形元件的元胞陣列的設計過程中，需要考慮到生產加工約束條件。
LLGA結果發生器可以自動計算一階平均效率。
2、 參數運行
參數運行停止后再繼續運行新的循環計算時，中間結果不會丟失，就是說參數運行可停止可繼續，不用重頭再來。
參數運行處理計算過的結果會更高效，定義沒有合適結果的循環也會運行。
所有循環完成后可以自動保存結果，并且能強制關閉會話窗口。
參數運行的參數可視圖表可以選擇是否顯示物理單位。
添加了所有光源的更多參數。
3、 位置/公差
公差改名為孤立地位（isolated positioning），會話框中的位置也做了調整。
恒等算子和坐標中斷面可在4π空間中自由定義。
4、 光路流程圖
連接兩個元件的標準流程圖允許選擇瑞利-索末菲卷積和瑞利-索末菲求和算子。
擴展的日志會記錄下光路流程圖的內在傳播邏輯，包括傳播算子的完成步驟的擴展記錄。
新日志標準加入到光路日志當中，因此可以查看并選擇雙界面元件（DIC）內的自動傳播算子的選項。
新的光路流程圖工具可以將一個元件加入到已經創建的光學界面序列（OIS）。
5、 傳播
在之前的VirtualLabTM版本中，諧波場集的所有子場都必須在一個坐標系中定義，在5.10版中這個限制已經去除。這使得光路流程圖性能更優，模擬也能更一致。
傳播算子做了調整，使得到下一個傳輸面上的場計算更加優化，這保證了諧波場集的每個子場都會被單獨計算。
大多數理想元件可通過解析地定義入射光坐標系來處理橫向偏移。線性相位算子也能解析地處理場的方向。
真實元件可以解析地處理橫向平移，傳播技術的選擇明確了是否能解析地解決平移。
采用光線追跡時，光線數量可以自由定義。
對一些理想元件可以進行光線追跡，會將理想化效果應用于入射光束上，例如線性相位、球面相位、分束器等等。
用戶可以在光線束追跡模擬時選擇探測器。
光路長度由光線束追跡決定，在脈沖評估探測器和光路長度分析儀中會使用光路長度信息。
6、 光源
所有光源在優化坐標系下產生輸出信號，包括橫向平移值及部分相干光源的平移模位置。對于平面波光源的方向也會做解析處理。
引入了對產生非單一諧波場的光源新的處理選擇項，用戶可以明確只選擇用光源的其中一個模式，用戶還可以通過選擇橫移序號及光譜序號來指定產生哪個模式。
7、 元件
新的黑匣子元件可以讓用戶對指定的子系統進行加密。黑匣子元件可以用于在不泄露安全IP的情況下發送用戶的光學系統。
子系統元件可以用于打包一套定義好的LPD相對應的光路編輯界面（LPE），這個技術對于VL5.10解決棱鏡問題來說非常有必要。
一個新的理想元件可通過用一個子系統的ABCD矩陣來定義該子系統。
用戶可以定義一個固定到場尺寸和采樣（field size and sampling）這樣一個光路元件的輸入傳輸面。
OIS預覽會顯示指定介質的折射率。
在OIS/Stack的標注行界面會在圖示中呈紅色。
可定義隨機元胞/散斑型擴散器的種子。 |
