在準直系統中模擬干涉條紋

在光學設計中，適當地考慮不良反應是很重要的。例如，可能發生在每一個光學裝置非鍍膜表面上的多次反射所引發的鬼像效應，而且其對系統性能的影響也應該被檢測。最近發布的非時序擴展，VirtualLab可用于方便地分析影響，正如前面提到的鬼像。通過靈活的配置每個表面的通道，以及其他數值參數，可以調整手中系統的模擬，以便分析不同的情況和改變準確度。

 

研究準直系統中的鬼像影響

 

在任何光學系統中，總有造成鬼像的雜散光。雜散光可能有不同的起源，如不良反射和散射。以大孔徑激光二極管的準直透鏡系統為例。在VirtualLab中由非時序追跡引擎研究表面之間的反射，多次反射可能導致平行光束的干涉條紋。
 

 

準直光束中由多次反射造成的干涉條紋

 

非時序配置：如何使用光線和場追跡的模擬設置

 

VirtualLab可以用來執行光線以及場追跡。數值模擬的控制通常是通過各種參數規范來操作。在VirtualLab中這些通常是以準確性因子的形式形成。該文檔解釋了在VirtualLab中使用提供的準確性因子來控制光線和場追跡引擎，集中在非時序仿真的設置。

 

最大級：非時序光線/場追跡

 

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