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    時間:2018-11-05 12:45來源:訊技光電作者: 技術部點擊:打印
    由于電磁場的矢量性質,偏振效應通常在現代光學研究和工程中起重要作用。線性偏振鏡(例如線柵偏振鏡)可能是用于操縱偏振態的最常用的光學元件。 盡管在大多數情況下,偏振鏡設計用于傍軸情況,但它們也用于非傍軸設置,例如, 在高NA透鏡后面的聚焦區域或測量高傾斜偏振鏡后面的Stokes參數。 在VirtualLab Fusion中,我們為非傍軸情況下的偏振鏡提供了一個模型。 此外,VirtualLab獲得的仿真結果與參考文獻具有良好的一致性。
     
    聚焦區域處的偏振鏡
     
     
    為了在非傍軸設置中模擬偏振鏡,在VirtualLab中實現了理想化模型,并且呈現了偏振鏡在聚焦區域中的效果。
     
    傾斜偏振鏡背后的Stokes參數
     
     
    使用理想化的非傍軸偏振鏡模型,研究了偏振鏡與來自不同角度的入射波的相互作用,并且使用Stokes參數來表征結果。
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