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如果這個例子評估20個參數，那么返回到光路圖（LPD）。
結果：使用GFT+進行光束整形
現在，利用幾何場追跡+計算生成的光束剖面。
由于離軸設置，光線分布顯示出輕微的不對稱形狀。
不過，場分布幾乎是對稱的（最好是使用偽色（false colors））。
產生的相位是完全平坦的，產生的波前誤差：
file used: BDS.0005_Reflective_BeamShaper_01_RT.lpd
結果：評估光束參數
從生成的整形光束場分布，可以評估光束參數。
可以直接通過使用探測器界面實現。
在這個例子中，我們對光束半徑，發散角和M²值感興趣。
整形光束在x和y方向上顯示了一個幾乎相同的半徑。
發散角大約是4urad。
M²值明顯高于1。（與理想高斯光束相比，高M²值是由光束偏離引起的）
file used: BDS.0005_Reflective_BeamShaper_02_BeamShaping.lpd
光束質量優化
通常，使用合適的高斯調制光闌以用于優化M²值。
因此，我們使用測量的半徑作為腰束半徑（消除發散角）來生成一個高斯光束。
之后，將接收場轉換成一個透射函數。
將該傳輸函數用作光闌（在一個透射函數元件中）。
結果：光束質量優化
由于通過高斯孔徑傳播，光束顯示出理想高斯形狀。
因此，M²值在兩個方向上幾乎都是1。
然而，光束半徑是略有減少。
（光束半徑顯示在最后一張幻燈片是由于其偏離了理想高斯。）
file: BDS.0005_Reflective_BeamShaper_03_BeamOptimization.lpd
反射鏡方向的蒙特卡洛公差
對于公差，在隨機模式下我們使用參數運行特性。
對于這個例子，假設每個反射鏡都有±0.1°的角度偏差（絕對的方向）。
由于這個偏差，整形光束的波前差明顯增加。
這意味著，波前對對齊誤差很敏感。
file used: BDS.0005_Reflective_BeamShaper_04_Tolerancing.run
第一個隨機公差的典型強度分布：（相應的均方根波前差：1.08λ，40.4λ，140λ）
由于波前差和因此校準的偏差更大，M²值明顯增加�？梢允褂酶咚箍讖絹頊p少。
總結
實現并分析高性能離軸和無色散反射光束整形裝置。
1.模擬
通過使用光線追跡來驗證反射光束整形設置。
2.研究
為了計算場分布和評價光束參數，應用幾何場追跡+（GFT+）引擎。
3.優化
通過使用顯示出高斯整形孔徑函數和經典場追跡引擎來優化M2參數。
4.分析
通過應用蒙特卡羅公差來分析取向偏差的影響。
可以使用VirtualLab Fusion非常有效地模擬和分析復雜的光束整形裝置，尤其是離軸系統。為此，根據情況應用不同的模擬引擎。
參考文獻
[1]M. Serkan, H. Kirkici, and H. Cetinkaya, “Off-axis mirror based optical system design for circularization, collimation, and expansion of elliptical laser beams”, Appl. Optics 46, No. 22, 5489-5499 (2007).
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關于案例的文檔
- BDS.0001: Collimation of Diode Laser Beam by Objective Lens
- BDS.0002: Focus Investigation behind Aspherical Lens
- BDS.0003: Optimization of a Lens Doublet for Laser Beam Focusing
- BDS.0004: Focal Beam Size Reduction by Generating a Bessel Beam using Axicon Pair
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