摘要
VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復雜光學系統中已經可以實現，并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學介質實現，以此定義其一般性的幾何結構。而且，幾個高級規格選項可用，例如，添加一個完整和部分涂層。這個案例解釋了配置的可用選項，并且討論了其對光柵結構的影響。
介質目錄中的斜光柵介質
內置斜光柵介質可以在VirtualLab的嵌入的介質目錄中找到。
可用于設置復雜光學光柵結構（所謂的堆棧）和傅里葉模式法（FMM）分析。
斜光柵介質的編輯對話框
斜光柵介質為周期性結構自定義提供很多選項。
首先，光柵脊和槽的材料必須在基礎參數選項中定義。
這些材料既可以從材料目錄選擇，也可以通過折射率定義。
斜光柵介質的編輯對話框
在材料設置下面，可以定義光柵的幾何結構。
以下參數可用：
- 填充率（定義光柵的上部分和下部分）
- z擴展（沿著z方向測量光柵高度）
- 傾斜角度左（脊左側的傾斜角）
- 傾斜角度右（脊右側的傾斜角）
如果傾斜角相同，通過點擊不等號關聯兩個設置。
斜光柵介質的編輯對話框
為了添加可配置的涂層，必須激活應用涂層（Apply Coating）選項。
現在，額外的選項和結構的圖形一起顯示。
斜光柵介質的編輯對話框
首先，必須選擇涂層材料。
同樣地，材料可以從材料目錄中選擇，也可以通過折射率定義。
接著，分別配置每個側壁，頂壁和底壁的涂層厚度，如草圖所示。
斜光柵的編輯對話框
由于斜光柵由介質定義，必須在周期選項中設置周期。
由于用這個特別的介質來設計光柵，因此常常配置為周期性。
堆棧使用的評論
為了使用光學堆棧里的介質，有必要定義兩個作為介質邊界的表面。
一般來說，界面之間的距離必須手動設置。
對于斜光柵介質，介質高度（z方向）直接定義在介質配置中。
因此，表面之間的距離自動與斜光柵介質z擴展同步。
斜光柵介質的采樣配置
斜光柵介質采樣
接下來的幻燈片展示了一些選中的斜光柵介質案例。
在每個幻燈片的左邊，編輯對話框展示了相關參數。
在右邊，顯示了介質的預覽。
介質預覽可以通過對話框部分底部的預覽按鈕獲得。
采樣斜光柵#1
采樣斜光柵#2
采樣斜光柵#3
采樣斜光柵#4
文檔信息
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