摘要
VirtualLab可以用于分析任意類型的光柵。由于在復雜光學設置中傾斜結構的光柵越來越重要，所以軟件中也加入了傾斜光柵的模型。傾斜光柵建模為特殊的光學介質，可以多樣化地定義其幾何形狀。此外，幾種高級規范選項也可以在軟件中實現，例如添加完整和部分涂層。這個用例解釋了可用的配置選項，并討論了它們對光柵幾何形狀的影響。
介質目錄中的傾斜光柵介質
可以在VirtualLab內嵌的介質目錄中找到內置傾斜光柵介質。
可以使用它設置復雜的光學光柵結構（所謂的堆棧）并運用傅里葉模態法分析。
傾斜光柵介質的編輯對話框
傾斜光柵介質提供了很多選項去自定義周期性結構。
首先，需要在基本參數標簽頁中定義光柵脊和谷的材料。
這些材料既可從材料目錄中選取，也可通過折射率定義。
傾斜光柵介質的編輯對話框
在材料設置下方，可以定義光柵的幾何參數。
有如下參數可選：
─ 占空比（相對于光柵的上面或者下面）
─ Z方向擴展（在z方向光柵的高度）
─ 左傾斜角（光柵脊左側的傾斜角度）
─ 右傾斜角（光柵脊右側的傾斜角度）
如果傾斜角度相同，可以通過點擊（不）等號關聯角度設定。
傾斜光柵介質的編輯對話框
為了增加可配置的涂層，需要激活Apply Coating選項。
這樣，結構示意圖中就出現了附加選項。
傾斜光柵介質的編輯對話框
首先，選擇涂層的材料。
同樣的，可以從材料目錄中選擇或通過折射率定義材料。
然后，可以單獨設置涂層每個側面、上面、下面的厚度，如示意圖所示。
傾斜光柵介質的編輯對話框
因為傾斜光柵是通過介質定義的，需要在周期化標簽頁中設置周期。
因為這種特殊的介質是為了光柵而設計的，所以它總是設定為周期化的。
對堆棧用法的注釋
對于在光學堆棧中介質的使用，需要定義兩個表面作為介質的分界面。
一般的，這兩種界面的距離需要手動設置。
對于傾斜光柵介質，介質高度（z方向擴展）是在介質設置中直接定義的。
所以，兩種表面的距離將隨著傾斜光柵介質的z方向擴展而自動同步。
傾斜光柵介質的配置樣例
傾斜光柵的樣例
在接下來的幻燈片中片中將展示一些精選的傾斜光柵介質的例子。
每張幻燈片片的左側，給出了編輯對話框并展示了相關的參數。
在右側，展示了介質的預覽。
介質的預覽可以通過對話框底部的預覽按鈕獲得。
傾斜光柵樣例#1
傾斜光柵樣例#2
傾斜光柵樣例#3
傾斜光柵樣例#4
文件信息
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