分析高數值孔徑物鏡的聚焦特性

摘要

 

高數值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區域的場，也可以深入研究矢量效應。 


 

建模任務

 

概述

 

•案例系統已預先設置了高數值孔徑物鏡。

•接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統上執行仿真。

 

光線追跡仿真

 

•首先選擇“光線追跡系統分析器”作為模擬引擎。

•單擊go！

•獲得了3D光線追跡結果。

 

光線追跡仿真

 

•然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。

•單擊go！

•結果得到點圖（二維光線追跡結果）。

 

場追跡仿真

 

•切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。

•單擊go！

 

 

場追跡仿真（相機探測器）

 

•上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。

•下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。

 

場追跡仿真（電磁場探測器）

•使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。

 

 

場追跡仿真（電磁場探測器）
 

•使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。

 

文件信息

 

更多閱讀

-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination