高數值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析

1. 摘要

   

高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質至關重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應引起的聚焦光斑失對稱現象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠對聚焦區域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應的理解。


 

2. 建模任務

  

3. 概述

 

4. 光線追跡仿真

 

5. 場追跡仿真

 

6. 場追跡結果(相機探測器)

7. 場追跡結果(電磁場探測器)

 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結果

 

 

8. 文件信息

 

更多信息

• Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer
• Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination