VirtualLab Fusion中的光學各向異性介質

摘要
 

光學各向異性，也被稱為雙折射，是產生各種光學現象及其相關應用的原因。VirtualLab Fusion提供了一種快速和嚴格的場跟蹤分析算法，該算法應用于S矩陣求解器，并工作在k域。在本應用案例中，介紹了各向異性介質的基本配置。

 

目錄中的各向異性介質

 

定義各向異性介質

雙軸晶體由三個方向的主折射率定義；

單軸晶體由o折射率和e折射率定義;

一般各向異性介質可以通過直接定義介電常數張量建立。

 

 

各向異性介質預覽

 

預配置晶體
 

VitualLab Fusion提供了一系列預設的晶體介質，可以從介質(Media)目錄中訪問。用戶還可以在目錄中導入和導出自定義的介質。

 

 

各向異性涂層
 

各向異性涂層可以在涂層(coating)目錄中找到，并應用于VirtualLab Fusion的所有光學表面。

各向異性晶體板
 

 

各向異性分層介質組件

 

 

各向異性表面

 

 

波片計算器
 

晶體板組件(Crystal Plate Component)和主窗口的計算器模塊(Calculators)允許訪問波片計算器，它可用于確定具有給定特性的波片的厚度和相位延遲。