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    衍射級次偏振態的研究
    時間:2022-06-26 19:27來源:訊技光電作者: 技術部點擊:打印
    摘要
     
    光柵結構廣泛應用于各種光學應用場景,如光譜儀、近眼顯示系統、脈沖整形等?焖傥锢砉鈱W軟件VirtualLab Fusion通過使用傅里葉模態方法(FMM,也稱為RCWA),為任意光柵結構的嚴格分析提供了通用和方便的工具。為此,復雜的一維或二維周期結構可以使用界面和調制介質進行配置,這允許任何類型的光柵形貌進行自由的配置。在此用例中,詳細討論了衍射級次的偏振態的研究。

     
    任務說明
     
     
    簡要介紹衍射效率與偏振理論
    某個衍射級次(𝑛)的效率表示有多少的輻射功率被衍射到這個特定的級次中。它是由復數值瑞利系數計算出來的,瑞利系數包含了每個衍射級次(矢量)電磁場的全部信息。瑞利系數本身是由FMM對光柵的特征值問題進行嚴格分析的結果。
    如果在TE/TM坐標系(CS)中給出瑞利系數,則可以計算衍射效率:
    其中,n_in/n_out為覆蓋層和襯底層的折射率,ϑ_in/ϑ_out為所分析的階次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示輻射光的振幅。
    如果瑞利系數沿𝑥、𝑦和𝑧給出瑞利系數,則必須應用以下方程:
    因此,必須考慮所給出的瑞利系數的坐標系。默認情況下,光柵坐標系中為。

    光柵結構參數
    研究了一種矩形光柵結構。
    為了簡化設置,選擇光柵配置,只允許零階(R_0)反射傳播。
    根據上述參數選擇以下光柵參數:
    光柵周期:250 nm
    填充因子:0.5
    光柵高度:200 nm
    材料n_1:熔融石英(來自目錄)
    材料n_2:二氧化鈦(來自目錄)
     
     
    偏振態分析
    現在,用TE偏振光照射光柵,并應用圓錐入射角(𝜑)變量。
    如前所述,瑞利系數的平方振幅將提供關于特定級次的偏振態的信息。
    為了接收瑞利系數作為檢測器的結果,需要選擇光柵級次分析器件中的單個級次輸出,并選擇所需的系數。
     
     
    模擬光柵的偏振態

     
    瑞利系數現在提供了偏振態的信息:
    在圓錐入射角為0(𝜑=0)時,。這說明衍射光是完全偏振的。
    對于𝜑=22°,。此時,67%的光是TM偏振的。
    對于𝜑>50°,系數接近為常數,因此偏振態也是常數。
     
    Passilly等人更深入的光柵案例。
    Passilly等人的工作研究并優化了亞波長光柵下衍射光譜的偏振態,以獲得不同狀態之間的高度轉換。
    因此,他們將模擬結果與制作樣品的測量數據進行了比較。

     
    光柵結構參數
    在本文中,研究了兩種不同的制備光柵結構。
    由于加工造成的光柵的理想二元形狀的一些偏差是可以預料的,而且確實可以觀察到:在基板和側壁上存在不完全平行的欠刻蝕部分。
    由于缺少關于制作結構的細節,我們將其簡化為VirtulLab Fusion中的模擬。
    但是如果有可用數據,就可以詳細分析光柵的復雜形狀。
     
    光柵#1——參數
    假設側壁傾斜為線性。
    忽略了襯底中的欠刻蝕部分。
    為了實現光柵脊的梯形形狀,采用了傾斜光柵介質。
    光柵周期:250 nm
    光柵高度:660 nm
    填充因子:0.75(底部)
    側壁角度:±6°
    n_1:1.46
    n_2:2.08

     
    光柵#1——結果
    這兩幅圖對比之下匹配度很高,特別是圖表的趨勢。
    與參考文獻相比,仿真中光柵結構進行了簡化,存在一些小的偏差。由于缺乏關于實際的更詳細的光柵結構的數據,這種簡化是必要的。

      
     
    光柵#2——參數
    假設光柵為矩形。
    忽略了襯底中的欠刻蝕部分。
    矩形光柵足以表示這種光柵結構。
    光柵周期:250 nm
    光柵高度:490 nm
    填充因子:0.5
    n_1:1.46
    n_2:2.08
     
     
    光柵#2——結果
    這兩幅圖對比之下再次顯示出非常好的匹配度,特別是圖表的趨勢。
    與參考文獻相比,仿真中光柵結構進行了簡化,存在一些小的偏差。由于缺乏關于實際的更詳細的光柵結構的數據,這種簡化是必要的。
      
     
    文檔信息

     
    拓展閱讀
    - 超稀疏介質納米線柵偏振器
    - 抗反射蛾眼結構的嚴格分析與設計
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