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    VirtualLab Fusion應用:隨機分布公差分析
    時間:2024-08-15 20:47來源:訊技光電作者: 技術部點擊:打印
    摘要 
     
     
    對于具有許多參數的系統,可以通過在給定邊界內隨機改變參數來研究公差。VirtualLab Fusion提供了各種隨機分布來幫助光學工程師完成這項任務。在參數運行文檔中,用戶可以指定參數為均勻、正態或非對稱正態分布。
     
    在哪里可以找到組件?
     
                                                         
     
    Property Browser可以在主窗口的右側找到。它與VirtualLab Explorer、Assistant和Distributed Computing共享同一個面板。
    顯示的選項和屬性取決于活動*文檔的類型(例如,數據陣列、光學設置等)。
     
    *活動文檔是用戶點擊的最后一個文檔。                                           
     
    分布預覽                                  
                                                                               


     
     
    均勻分布
                                                                                 
    對于Uniform Distribution,參數范圍內的所有值被隨機函數選中的概率相同。
     
    基于標準差的正態分布
     
                                                                           
     
    正態分布-參數范圍
     
                                                          
     
    正態分布–截止分布
     
     
    基于過程能力的正態分布 
     
                                                               
     
    正態分布-區間中的相對位置
     
                                                                       
     
    正態分布-過程能力指數
     
                                                                 
     
    結果分析
                                                                        
    例如找到傾斜角在-2°/2°特定光柵的最小效率:
     
                                                                       
     
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